高端光刻机有多难，为何中国造不出？工程师：一个零件打磨10年

最近几天有关美国进一步制裁华为的消息闹得沸沸扬扬，大家都为华为未来的发展担忧。

按照美国商务部的要求，凡是使用美国设备、技术、软件的企业都不能给华为提供芯片或者代工华为的芯片，美国这一招是相当狠的，相当于从整个产业对华为芯片进行了全面封锁。

在美国推出这个制裁之后，关于我国芯片制造再一次成为了大家关注的焦点。

目前我国作为全球芯片消费量最大的国家之一，每年光是进口的芯片就接近2万亿人民币，虽然目前我国也具备芯片制造能力，但大多都是一些中低端芯片，14nm米以上的芯片严重依赖进口，对于7nm以上的芯片，则完全不能自主生产。

也正因为我国在高端芯片制造上不能实现独立自主，所以经常被西方一些国家夹住脖子，比如本次受到美国的制裁，华为的芯片供应就会受到很大的影响，未来华为5纳米芯片的旗舰机将不能按时推出。

看到美国这种制裁，很多中国网友都咬牙切齿，认为美国这种欺人太甚，与此同时很多人都在疑惑，我国芯片消费量这么大，那为何我们没法生产出7纳米以上的芯片呢？

实际上目前我国是具备7亿纳米甚至5纳米芯片的设计能力的，比如华为海思就具备这种实力，但是把芯片设计出来之后，你还得把它生产出来，而在芯片生产过程当中，有一个核心的部位一直是制约我国芯片发展的重要因素，那就是光刻机。

光刻机是在整个芯片产业链当中最核心的一个设备，也是技术最复杂最尖端的一个设备，因为光刻机技术非常复杂，所以目前我国并不具备制造高端光刻机的能力。

虽然目前我国有不少光刻机制造企业，但这些企业所能制造出的光刻机工艺制程都相对比较低，其中能够生产出最高制程的上海微电子，其生长并能量产的光刻机也只不过是90纳米，另外的45纳米还处于试验阶段。

而目前全球最强的光刻机生产企业ASML已经量产7nm光刻机，并垄断7nm纳米以上光刻机100%的市场。

按理来说，我国不具备生产7nm米以上的光刻机，但是我们可以通过进ASML设备来提高我国芯片的制造能力，但遗憾的是目前很多西方国家都对我国芯片进行技术封锁，他们不仅严禁向我国出口一些高端芯片，同时也禁止荷兰ASML向我国出口高端光刻机。

比如2018年中芯国际曾花1.2亿美元（这个价格相当于2018年中芯国际一年的利润）从荷兰ASML订购了一台EUV光客机，按照合同ASML应该在2019年底向中芯国际交货的，但是因为受到一些西方国家的阻挠，直到现在为止，ASML仍然没有完成交货。